EUV光源で平均60W,24時間連続稼働を達成新エネルギー・産業技術総合開発機構,ギガフォトン(株) 研究グループ
今回,20μm以下の微小ドロップレットの供給技術,短波長の固体レーザーによるプリパルスとCO2レーザーによるメインパルスの組み合わせ,磁場を使ったデブリ除去技術を,より進化させたことによって達成された。これは,現状半導体工場で稼働しているEUVスキャナーに対して,約20%のスループット向上が見込める成果であり,量産対応EUVスキャナーの実現に向けて大きく進捗したことを意味している。
今後,ギガフォトン(株)は,2015年中に高出力検証機を稼働させ,メモリー等への量産対応目安である250Wレベルの連続稼働を目指し,更なる研究開発に取り組むとしている。