第24回国際ホトマスクシンポジウム（Photomask Japan 2017）

概要

日時

2017年4月5日（水）～4月7日（金）

場所

パシフィコ横浜 アネックスホール（〒220-0012　神奈川県横浜市西区みなとみらい1-1-1）

プログラム

講演言語：英語（同時通訳なし）
【基調講演】
“GPU: the Biggest Key Processor for AI and Parallel Processing”馬路 徹（エヌビディア ジャパン）
【招待講演】
・“Outlook of development trends of FPD manufacturing technology and requirements for photomasks”Chanuk Jeon（Samsung, Korea）
・“eBeam Initiative Survey Reports Confidence in EUV and Multi-beam Technology”Aki Fujimura（D2S, Inc., USA）
・“MBMW-101: World’s 1st High-Throughput Multi-Beam Mask Writer”Christof Klein（IMS Nanofabrication, Austria）
・“Performance and Versatility of Multi-Beam Writing”Elmer Platzgummer（IMS）
・“Computational Imaging: Scaling Walls!”Vivek Singh（Intel）
・“Translation of lithography variability into after-etch performance: monitoring of“golden”hotspot”Jo Finders（ASML, The Netherlands）
・“Overcoming EUV Mask Blank Defects: what we can, and what we should”Rik Jonckheere（imec, Belgium）
・“NXE Pellicle Development Update”（Tentative）John Zimmerman（ASML）
・“Status of EUV mask qualification for defect free mask manufacturing”Sascha Perlitz（Carl Zeiss, Germany）
【パネルディスカッション】
【主な日程】
5日（水）FPD，GPU，基調講演
6日（木）描画技術，EDA&MDP，マスク関連リソ技術，ポスターセッション，懇親会
7日（金）EUV，NIL，パネルディスカッション

参加費

【3月22日までのお申込】SPIE会員：50,000円，非会員：55,000円，学生：10,000円
【3月23日以降のお申込】SPIE会員/非会員：60,000円，学生：10,000円
※FPDセッションのみの聴講は特別料金の12,000円（早期割引10,000円）で参加可能。

申し込み方法

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