第25回国際ホトマスクシンポジウム（Photomask Japan2018）

概要

日時

2018年4月18日（水）～20日（金）

場所

パシフィコ横浜 アネックスホール（〒220-0012　神奈川県横浜市西区みなとみらい1-1-1）

プログラム

講演言語：英語（同時通訳なし）
【基調講演】（4/18）
“Evolutional Memory Technology”Nahomi Aoto（Micron Memory Japan）
【25 回記念特別セッション】（4/19）
““Mask Technologies”, the key of Moore’s Law Scaling”Shinji Okazaki （ALITECS Corporation）
“History of VSB Mask Writer and Future of Multi-beam Mask Writer”Noriaki Nakayamada（NFT）
“Greeting Message for PMJ 25th Anniversary from EMLC”Uwe Behringer（UBC Microelectronics）
“Greetings Message for PMJ 25th Anniversary from BACUS”Jim Wiley（ASML）
【招待講演】
“Characterization and application of vertical material contrast generated by VUV exposure:making smooth 3D polymer micro-optics”Robert Kirchner（Technical University of Dresden）（4/18）
“Update on Multi-Beam Writing”Mathias Tomandl（IMS）（4/18）
“Novel 3-Dimensonal Photo Lithography Using Built-In Lens Mask”Yoshihiko Hirai （Osaka Prefecture University）（4/18）
“eBeam Initiative Surveys Report Greatly Increased Confidence in EUV and Mask Process Correction Requirements”Aki Fujimura（eBeam Initiative）（4/19）
“Progress on Actinic Blank Inspection tool and application to EUV mask observation”Hiroki Miyai（Lasertec）（4/20）
“AIMSTM EUV Platform: Going Beyond Actinic Review of EUV Photomasks”Martin Dietzel（Carl Zeiss）（4/20）
Summary of BACUS Panel Discussion“HVM EUV Lithography: Managing without Actinic Patterned Mask Inspection”Jed H. Rankin （GlobalFoundries Inc.）（4/20）
“NXE pellicle Industry Update”Derk Brouns（ASML）（4/20）

参加費

【4月2日までのお申込】SPIE会員：50,000円，非会員：55,000円，学生：10,000円
【4月3日以降のお申込】SPIE会員/非会員：60,000円，学生：10,000円
※FPDセッションのみの聴講は特別料金の12,000円（早期割引10,000円）で参加可能。

申し込み方法

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