応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会（分科会）ワークショップ（NGL2021）

概要

日時

2021年7月8日（木）～9日（金）

場所

オンライン開催（zoom）

プログラム

【基調講演】7月8日（木）
・「5G Evolution and 6G」中村武宏（NTTドコモ）
・「積層型CMOSイメージセンサを進化させるプロセス技術」岩元勇人（ソニーセミコンダクタソリューションズ）
・「EUV Lithography at IMEC（仮）」Kurt Ronse（imec）
【技術セッション】7月8日（木）
光リソグラフィ＆アドバンストパターニング，レジスト材料，ポスターセッション
【技術セッション】7月9日（金）
ナノインプリント，EB・計測・マスク技術，EUVL

参加費

（6月14日以前申し込み）主催・協賛団体会員／学生：1,500円，一般：9,000円
（6月15日以降申し込み）主催・協賛団体会員／学生：2,000円，一般：10,000円

申し込み方法

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