ギャップ長20 nmのナノギャップガスセンサの開発に成功東京工業大学

 東京工業大学の研究グループは,抵抗変化型ガスセンサの電極間隔(ギャップ長)に注目し,20 nmのナノギャップ電極とすることで,従来のガスセンサと比較して約300倍高速化したガスセンサを開発することに成功したと発表した。

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