第136回微小光学研究会「材料を創る，活かす～適材適所の微小光学～」

概要

日時

2015年5月26日（火）10：00～16：50

場所

早稲田大学 西早稲田キャンパス55号館N棟1階 大会議室
（〒169-8555　東京都新宿区大久保3-4-1）

参加費

一般：4,000円，学生/シニア：1,000円（資料代含，当日支払う）

申込方法

不要（当日お越しください）

プログラム

1. 「III-V/Si異種基板集積技術と光デバイス特性」西山伸彦（東京工業大学）
2. 「ウェハ接合技術によるシリコン上化合物半導体量子ドットレーザ」田辺克明（東京大学）
3. 「有機EOポリマー／ Si融合集積フォトニクスと深紫外LEDナノ光取出し技術」井上振一郎（NICT）
4. 「【基調講演】光通信部品材料技術の現状と今後の展望」鈴木扇太（NTT）
5. 「光通信素子における透磁率制御の可能性」雨宮智宏（東京工業大学）
6. 「強誘電体材料の切削加工によるリッジ型光導波路」多喜川 良（九州大学）
7. 「【特別講演】エアロゾルデポジション法による常温セラミックスコーティングと応用展開」明渡 純（産総研）
8. 「Siフォトニクスへのグラフェン単層膜装荷と新機能発現」中島啓幾（早稲田大学）
9. 「プラズモン・ナノレーザーによる超高感度ガス分子センシング」太田禎生（東京大学）