応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会（分科会）ワークショップ（NGL2016）
概要
- 日時
- 2016年7月7日（木）～8日（金）
- 場所
- 東工大大岡山校舎蔵前会館（〒152-0033 東京都目黒区大岡山2丁目12-1）
- プログラム
- 【基調講演】
7日・染谷隆夫（東京大学）
・森本 修（キヤノン）
8日・Dr. Kurt Ronse（imec）
【技術セッション】
7日・光リソグラフィ＆ MRT，DSA・レジスト材料，ポスターセッション（軽食提供あり）
8日・EUVL，EB・計測・マスク技術，NIL，パネルディスカッション - 参加費
- 【6月20日まで】主催研究会・共催団体会員および学生：3,000円，一般：12,000円
【以降の申込】主催研究会・共催団体会員および学生：4,000円，一般：15,000円
申込後，7月1日までに銀行振込。
