応用物理学会・次世代リソグラフィ技術研究会（分科会）ワークショップ（NGL2017）

概要

日時

2017 年7月18日（火）～19日（水）

場所

東工大大岡山キャンパス蔵前会館（〒152-0033　東京都目黒区大岡山2-12-1）

プログラム

【基調講演（7/18）】
・「オープンイノベーション（仮題）」渡邉政嘉（経済産業省）
・「システムデバイスロードマップ（仮題）」林 善宏（SDRJ／ルネサスエレクトロニス）
・「マルチビームEBマスクライタ（仮題）」Hans Loeschner（IMS Nanofabrication AG）

【技術セッション】
7/18　光リソグラフィ＆ MPT，DST＆レジスト，ポスターセッション（軽食提供）
7/19　NIL，EB・計測・マスク技術，EUVL