Photomask Japan 2019 第26回国際ホトマスクシンポジウム（PMJ2019）

概要

日時

2019年4月16日（火）～18日（木）

場所

パシフィコ横浜 アネックスホール（〒220-0012　神奈川県横浜市西区みなとみらい1-1-1）

プログラム

【4月16日（火）9：00～18：00】
　セッション1：オープニングセッション第1日目（基調講演）
　セッション2：リソグラフィおよびエッチング
　セッション3：FPD
　セッション4：描画および計測技術
　セッション5：EUVL I
【4月17日（水）9：00～20：20】
　セッション6：オープニングセッション第2日目（基調講演）
　セッション7：EDAおよびMDP
　セッション8：特別セッション（MEMSおよびPUF）
　セッション9：EUVL II
　セッション10：ポスターセッション
　懇親会
【4月18日（木）9：00～18：30】
　セッション11：オープニングセッション第3日目
　セッション12：EUVL III
　セッション13：ナノインプリントリソグラフィ
　セッション14：寸法および欠陥制御
　パネルディスカッション
詳細は2月上旬に下記URLにて公開

参加費

（早期申込）SPIE会員：50,000円，一般：55,000円，学生：10,000円

申し込み方法

下記URLから申し込む。