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第153回微小光学研究会「微細加工・操作の微小光学」

概要

日時
2019年9月4日(水)10:00~17:00
場所
日本女子大学 新泉山館(〒112-0015 東京都文京区目白台1-19-10)
プログラム
1.【基調講演】「先端レーザーによる微細加工の展望」小林洋平(東京大学)
2.「マイクロ・ナノ光造形法の進展とフォトニクス・MEMS応用」丸尾昭二(横浜国立大学)
3.「レーザー転写による付加型パターニング-光が創り出す微小粒子と薄膜の微細パターン-」奈良崎 愛子(産業技術総合研究所)
4.「アディティブマニュファクチャリングのための高出力青色半導体レーザー開発」塚本雅裕(大阪大学)
5.「リソグラフィー応用光源(DUV/EUV)の最近の進展」溝口 計(ギガフォトン)
6.「EUVリソグラフィーによる半導体の微細加工」井谷俊郎(大阪大学)
7.「微小球光共振を用いた形状標準のナノ精度計測」道畑正岐(東京大学)
8.「局在プラズモン制御による超解像光マニピュレーション」田中嘉人(東京大学)
9.「プラズモン光ピンセットによるDNAの選択的光捕捉」東海林 竜也(大阪市立大学)
10.「光マニピュレーション科学~ナノ構造に基づく新型光ピンセット」坪井泰之(大阪市立大学)
参加費
一般:5,000円,学生/シニア:2,000円(資料代含,当日支払う)
申し込み方法
下記URLから申し込む。

問い合わせ:(株)東芝/木村重哉

TEL:046-867-5118
E-mail:shigeya.kimura@toshiba.co.jp
URL:http://www.comemoc.com/

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