日本オプトロニクス協会技術講座「光学薄膜技術」

概要

日時

2019年11月27日（水）～28日（木）

場所

機械振興会館 別館4階（研修室）（〒105-0011　東京都港区芝公園3-5-22）

プログラム

【11月27日（水）】
講師：秋山貴之（ニコン）
・光学薄膜の基礎理論
・計算機による薄膜設計
・光学薄膜の種類と膜構成－反射防止膜，反射増強膜，波長分割膜，光路・光量分割膜
講師：生水利明（オプトグリーン）
・成膜方法－真空蒸着，イオン成膜，スパッタリング，その他手法
・膜厚制御
付録－ISO9211（光学コーティング）
【11月28日（木）】
講師：青木智則（ソルテック）
・成膜材料－光学用各種材料，機能性薄膜用各種材料
・光学薄膜の評価－光学特性の評価，密着力評価，硬さ評価，応力の測定，その他の評価
講師：臼井 巖（光学コンサルタント）
・各種機器に搭載されている光学薄膜の現状
・光学薄膜の各種部品への応用－反射防止膜，各種機能膜
・成膜プロセスの設定

定員

22名（定員になり次第）

参加費

（テキスト代含）：正会員：59,400円，賛助会員：74,250円，協賛：100,980円，一般：118,800円

申し込み方法

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