【重要】技術情報誌『O plus E』休刊のお知らせ

第163回微小光学研究会「実用化が拡大するシリコンフォトニクス」

概要

日時
2022年5月25日(水)13:30~17:45
場所
早稲田大学 西早稲田キャンパス55号館N棟1階 大会議室
プログラム
1.【特別講演】「シリコンフォトニクスの進展と通信・センサ応用」馬場俊彦(横浜国立大学)
2.「高分解能イメージングに向けた光集積フェーズドアレイ」種村拓夫(東京大学)
3.「シリコンフォトニック結晶デバイスを用いた空間電荷検知技術の研究」高橋 和(大阪府立大学)
4.「シリコンフォトニクスによる光トランシーバの集積化・高密度化の進展と課題」中村隆宏(PETRA)
5.「導波路型光アイソレータの開発と集積化に向けた検討」庄司雄哉(東京工業大学)
6.「Si/ポリマーハイブリッド型の光変調器を用いた高速信号伝送」横山士吉(九州大学)
7.「シリコンフォトニクスを用いた大容量伝送技術」田中 有(富士通)
定員
100名
参加費
(予稿集代含):一般:5,000円,応用物理学会員:4,000円,学生・シニア:2,000円,学生・シニア応用物理学会員:1,000円
申し込み方法
下記URLから申し込む。
締め切り
5月18日(水)

問い合わせ:北 智洋/早稲田大学

E-mail:tkita@waseda.jp
URL:http://www.comemoc.com/

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