応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会（分科会）ワークショップ（NGL2022）

概要

日時

2022年7月7日（木）～8日（金）

場所

オンライン開催

プログラム

【基調講演】
・「Semiconductor Industries: Creating the opportunities for the bright future in Japan」東 哲郎（TIA，TEL）
・「Mask Technologies for EUVL」Ted Liang（intel）
・「The present and the future of EUVL」Jos Benschop（ASML）
「国際光工学会SPIE 2022 年度ルドルフ＆ヒルダ・キングスレイク光学設計賞（SPIE Rudolf and Hilda Kingslake Award in Optical Design）受賞記念講演会」渋谷眞人（東京工芸大学）
【技術セッション】7月8日（木）
光リソグラフィ＆アドバンストパターニング，レジスト材料，ポスターセッション
【技術セッション】7 月9 日（金）
ナノインプリント，EB・計測・マスク技術，EUVL

参加費

（6月14日以前申し込み）主催・協賛団体会員／学生：1,500円，一般：9,000円
（6月15日以降申し込み）主催・協賛団体会員／学生：2,000円，一般：10,000円