集光径6 nmのX線レーザービームの精密計測に成功大阪大学,理化学研究所,高輝度光科学研究センター 研究グループ
これまでX線自由電子レーザーを10 nm以下まで集光することは,X線鏡作製の問題だけでなく,集光ビームの計測問題のために難しく,誰も実際の集光サイズを確認できていなかった。今回,コヒーレントX線散乱により生じる干渉模様(スペックル)の形状を精密に解析することで,10 nm以下まで集光されたX線ビームの形状計測に成功した。これにより,X線自由電子レーザーの集光技術のさらなる向上が可能となる。また,集光径という基礎パラメータを正確に決定できたことで,データ解析の精度の向上が期待される。