特集にあたってO plus E編集部

使えるナノ加工技術と光応用

　ナノテクノロジーという言葉が使われ始めて久しい。2001年にアメリカのクリントン大統領がナノテクノロジーを国家的戦略研究目標としたことが契機となり，日本にも一種のブームが到来した。当初はナノテクという言葉だけが先行したような感じもあり，研究費の申請書には，ともかくナノテクという文言を入れ，研究計画に無理やりナノテクと関連のある項目を盛り込む，というような傾向があったことは否めない。猫も杓子もナノテク，ナノテク，となった結果，ある時期からその反動で，ナノテクと書くとかえって申請が通りにくい，といううわさが流れたこともあった。
　時は流れて十有余年，ナノテクはだいぶ定着した分野となり，地に足のついた技術となってきた。特にナノサイズの構造物を作る技術は，特別なものではなくなりつつあり，ナノレベルの微細加工のしきいがだいぶ下がってきている。光リソグラフィの光源波長は193nmとなり，回路のデザインルールは10nmに迫ろうとしている。また，波長13.5nmのEUV（Extreme Ultra-Violet）光源を用いた光リソグラフィも，当初のアナウンスからはだいぶ遅れがあったものの，いよいよ実用化が見えてきた。半導体デバイスはナノテクの保守本流であり技術的な波及効果も大きい。
　電子ビームリソグラフィーは，量産には適さないと考えられてはいるものの，研究レベルでnmオーダーの加工を行うための安定したツールとなりつつある。マスクがいらないという点も，研究レベルでのナノ加工には好都合である。
　ナノインプリント技術の進歩も著しい。研究レベルから実用レベルの域に入っており，商用サービスも種々始まっている。
　このように，ナノサイズの構造物の作製は，今や限られた技術や設備を持つ限られた人々の独占状態から，その気になれば誰でもできる技術となりつつある。その中で目を引くのが，大学，研究所群のアライアンスによるナノテクノロジープラットフォームだ。各研究機関が個別に持つ設備と技術を共同利用化し，日本全国の拠点の中から最適な加工法，装置を選べる仕組みである。この仕掛けに関して，東大の拠点マネージャである三田吉郎先生に解説していただく。
　また本格稼働間近と目されているEUVによるリソグラフィ技術の現状と将来展望に関して，長らくキヤノンで半導体露光装置開発に携わられ，現在は露光装置用光源を製作するギガフォトンの鈴木章義氏に解説をお願いした。
　ナノレベルでの加工技術の世界に足を踏み入れようとしている読者へのガイドとなれば幸いである。