光で窒化シリコン薄膜の熱伝導率を倍増～半導体デバイスの高性能化につながる新たな放熱機構～科学技術振興機構（JST），東京大学　研究グループ

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　科学技術振興機構（JST），東京大学の研究グループは，光とフォノンの混合状態である表面フォノンポラリトンを用いて窒化シリコン薄膜の熱伝導率を倍増することに成功したと発表した。
東京大学生産技術研究所
【共同発表】光で窒化シリコン薄膜の熱伝導率を倍増～半導体デバイスの高性能化に...
https://www.iis.u-tokyo.ac.jp/ja/news/3365/?utm_source=utokyo_focus&utm_medium=referral&utm_campaign=update
#東大生研 の野村 政宏 准教授らの研究グループは、光とフォノンの混合状態である表面フォノンポラリトンを用い、窒化シリコン薄膜の熱伝導率を倍増することに成功しました。新しい放熱機構として、半導体デバイスの高性能化への貢献が期待されます。

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