EUV露光の高出力化をもたらす光源プラズマ流観測に成功北海道大学，大阪大学，米国パデュー大学，ギガフォトン UPDATE：2023.02.10 (1年前) | 記事カテゴリー：ニュース 北海道大学の研究グループは，大阪大学，米国パデュー大学，ギガフォトン株式会社の開発チームと共に，世界各国がしのぎを削る最先端の半導体製造に必須の技術である，EUV露光の高出力化に重要な役割を果たす，光源プラズマの複雑な流れ構造を世界で初めて明らかにして発表した。 北海道大学 1 Pocket新着情報: EUV露光の高出力化をもたらす光源プラズマ流観測に成功～「流れを操り、...https://www.hokudai.ac.jp/news/2023/02/euveuv.html2023年2月6日 ポイント ●半導体露光用EUV光源を構成するプラズマの流れの観測に世界で初めて成功。●これまで観測が困難であったプラズマの流れとEUV発光強度の関係を解明。●流れの制御が可能となる...
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